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高真空快速CVD系統OTF-1200X-4-RTP-C3HV

簡要描述:高真空快速CVD系統OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP爐、三通道混氣系統和高真空機組組成,可進行半導體基片、太陽能電池及其它樣品(尺寸可達 3″ )的退火,并采用 10KW的紅外燈進行加熱,Z快升溫速度可達 120℃/s,配有RS485 接口,可以通過控制軟件在計算機上控制運行并顯示溫度曲線。

  • 產品型號:OTF-1200X-4-RTP-C3HV
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2016-04-12
  • 訪  問  量:1533

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詳細介紹

 

產品型號

  高真空快速CVD系統OTF-1200X-4-RTP-C3HV

主要特點

  1、Al2O3纖維鋼構,無需水冷或風冷。

  2、內爐膛表面涂有進口高溫氧化鋁涂層,可以提高設備的加熱效率及延長儀器的使用壽命。

  3PID制器 ,可以設置30段升降溫程序,并設有過熱保護和斷偶功能。

  4通過CE認證。

技術參數

  1、電源:單相208-240V AC  50/60Hz  10KW

  2、石英管:外徑Φ110mm,內徑Φ103mm,長380mm

  3、加熱元件:8根紅外燈管,燈絲長200mm,絲圈Φ10mm,燈長300mm

  4、加熱區(qū):300mm

  5、工作溫度:zui高溫度1100

  6控溫精度:±0.5

  7、zui高升溫速度:RT-800℃時為50/s,800-1000℃時為10/s

  8、溫控儀:可控硅(SCRPID自動控制

  9、真空法蘭:不銹鋼,帶有水冷接口和針閥,雙層高溫O型圈密封,長時間在>900℃條件下運行必須采用水                  冷,循環(huán)水流量為0.5m3/hr

  10、真空度:10-2torr(機械泵),10-5torr(分子泵)

  11、質量流量計:3個,MFC1范圍0-100sccm,MFC2范圍0-200sccmMFC3范圍0-500sccm,精度1±%FS

  12氣罐:Φ80mm×120mm

產品規(guī)格

  尺寸:爐體760mm×330mm×530mm,真空混氣系統600mm×600mm×597mm

  重量:爐體45kg,真空混氣系統75kg

 

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