VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀

簡(jiǎn)要描述：VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開(kāi)發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。備有三個(gè)靶槍和三個(gè)電源，一個(gè)射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個(gè)直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類(lèi)設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)

產(chǎn)品型號(hào)：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2024-01-17
訪問(wèn) 量：842

產(chǎn)品咨詢聯(lián)系我們

產(chǎn)品分類(lèi)CLASSIFICATION

相關(guān)文章ARTICLES

磁控濺射儀的儀器特點(diǎn)你了解多少

查看全部

詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	價(jià)格區(qū)間	面議
產(chǎn)地類(lèi)別	國(guó)產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	冶金,綜合

VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開(kāi)發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀配備有三個(gè)靶槍和三個(gè)電源，一個(gè)射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個(gè)直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類(lèi)設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，且可使用的材料范圍廣，是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類(lèi)材料薄膜的理想設(shè)備。
1、配置三個(gè)靶槍?zhuān)瑑蓚€(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡(jiǎn)便。

產(chǎn)品名稱	VTC-600-3HD-1000雙靶磁控濺射儀
產(chǎn)品型號(hào)	VTC-600-3HD-1000
主要參數(shù)	1、輸入電源：220V/50Hz 2、濺射靶數(shù)量：3 3、腔體內(nèi)徑：?300mm 4、靶槍冷卻方式：水冷 5、極限真空度：7.4E-5pa 6、真空室規(guī)格：Φ300×330 mm 7、真空系統(tǒng)：VRD-16機(jī)械泵 FF-100/150渦輪分子泵 8、恢復(fù)真空：系統(tǒng)從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min（系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣） 9、充氣系統(tǒng)：2路質(zhì)量流量計(jì)（１路氬氣100scc、1路氬氣200scc）特殊氣體可定制 10、濺射靶規(guī)格：Φ2"，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 11、樣品臺(tái)：Φ70mm//可加熱（室溫～1000℃）
產(chǎn)品規(guī)格	主機(jī)尺寸：寬900mm×深650mm×高1100mm

產(chǎn)品咨詢

留言框

產(chǎn)品：
您的單位：
您的姓名：
聯(lián)系電話：
常用郵箱：
省份：
詳細(xì)地址：
補(bǔ)充說(shuō)明：
驗(yàn)證碼：

請(qǐng)輸入計(jì)算結(jié)果（填寫(xiě)阿拉伯?dāng)?shù)字），如：三加四=7

上一篇：UNIPOL-1220S型自動(dòng)研磨工作站
下一篇：UNIPOL-1204自動(dòng)精密磨片機(jī)

国产精品香蕉在线一区二区||精品国产一区二区三区香蕉3d|亚洲欧洲国产精品香蕉网|日韩欧美一区二区三区国产

VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀

留言框

產(chǎn)品：

您的單位：

您的姓名：

聯(lián)系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細(xì)地址：

補(bǔ)充說(shuō)明：

驗(yàn)證碼：