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簡(jiǎn)要描述：VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
產(chǎn)品型號(hào)：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2024-05-08訪 問(wèn) 量：410產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
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詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
·最多可選配四個(gè)靶槍，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）。
·可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
·體積小，操作簡(jiǎn)便。
·整機(jī)模塊化設(shè)計(jì)，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì)，可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整。
·可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源，可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍，也可多個(gè)電源單一控制靶槍。
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-600GD高真空磁控濺射儀 | |
| 產(chǎn)品型號(hào) | VTC-600GD | |
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 | |
| 主要參數(shù) | 1、電源電壓：220V 50Hz | |
| 15、產(chǎn)品規(guī)格： |
| |
| 序號(hào) | 名稱 | 數(shù)量 | 圖片鏈接 |
| 1 | 直流電源控制系統(tǒng) | （可選）套 | - |
| 2 | 射頻電源控制系統(tǒng) | 1套 | - |
| 3 | 膜厚監(jiān)測(cè)儀系統(tǒng) | 1套 | - |
| 4 | 分子泵（德國(guó)進(jìn)口或者國(guó)產(chǎn)更大抽速） | 1臺(tái) | - |
| 5 | 冷水機(jī) | 1臺(tái) | - |
| 6 | 聚酯PU管（Ø6mm） | 4m | - |
| 序號(hào) | 名稱 | 功能類別 | 圖片鏈接 |
| 1 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 | （可選） | - |
| 2 | 可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。 | （可選） | - |
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